雙溫對置擺蕩式染樣機
時間：2009年06月30日
靖江市新旺染整設備廠 |
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雙溫對置擺蕩式染樣機
XW-BDR系列擺蕩式染樣機，是針對振蕩式染樣機有煩人的振動和噪聲以及壽命短而研制成功的。它應用往復慣性力完全平衡原理，采用對置活塞式發(fā)動機的成熟結構和四連桿平擺機構，極限工作速度遠比振蕩機高。它幾乎沒有煩人的振動和噪聲，大大提高勻染性和工作壽命，該機勝任振蕩式染樣機的全部工作，屬于環(huán)保型產品。
主要技術參數
1、 加熱介質：水
2、 工作溫度：室溫-98℃
3、 杯子容積（ml）：100，250
4、 杯子數量：12和24
5、 控溫精度：±0.5℃
6、 加熱電源：AC380V50Hz
7、 控制電源：AC220V50Hz
8、 擺蕩速度：無級調節(jié)≤200次/分
XW-BDR系列擺蕩式染樣機，是針對振蕩式染樣機有煩人的振動和噪聲以及壽命短而研制成功的。它應用往復慣性力完全平衡原理，采用對置活塞式發(fā)動機的成熟結構和四連桿平擺機構，極限工作速度遠比振蕩機高。它幾乎沒有煩人的振動和噪聲，大大提高勻染性和工作壽命，該機勝任振蕩式染樣機的全部工作，屬于環(huán)保型產品。
主要技術參數
1、 加熱介質：水
2、 工作溫度：室溫-98℃
3、 杯子容積（ml）：100，250
4、 杯子數量：12和24
5、 控溫精度：±0.5℃
6、 加熱電源：AC380V50Hz
7、 控制電源：AC220V50Hz
8、 擺蕩速度：無級調節(jié)≤200次/分
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