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雙溫對置擺蕩式染樣機

發(fā)布時間:2006-05-24

雙溫對置擺蕩式染樣機
XW-BDR系列擺蕩式染樣機,是針對振蕩式染樣機有煩人的振動和噪聲以及壽命短而研制成功的。它應用往復慣性力完全平衡原理,采用對置活塞式發(fā)動機的成熟結構和四連桿平擺機構,極限工作速度遠比振蕩機高。它幾乎沒有煩人的振動和噪聲,大大提高勻染性和工作壽命,該機勝任振蕩式染樣機的全部工作,屬于環(huán)保型產品。

主要技術參數(shù)
♦1、 加熱介質:水
♦2、 工作溫度:室溫-98℃
♦3、 杯子容積(ml):100,250
♦4、 杯子數(shù)量:12和24
♦5、 控溫精度:±0.5℃
♦6、 加熱電源:AC380V50Hz
♦7、 控制電源:AC220V50Hz
♦8、 擺蕩速度:無級調節(jié)≤200次/分