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雙溫對置擺蕩式染樣機

發(fā)布時間:2013-10-07

雙溫對置擺蕩式染樣機


  XW-BDR系列擺蕩式染樣機,是針對振蕩式染樣機有煩人的振動和噪聲以及壽命短而研制成功的。它應用往復慣性力完全平衡原理,采用對置活塞式發(fā)動機的成熟結構和四連桿平擺機構,極限工作速度遠比振蕩機高。它幾乎沒有煩人的振動和噪聲,大大提高勻染性和工作壽命,該機勝任振蕩式染樣機的全部工作,屬于環(huán)保型產品。

主要技術參數
1、加熱介質:水
2、工作溫度:室溫-98°C
3、杯子容積(ml):100,250,300
4、杯子數量:12和24
5、控溫精度:±0.5℃
6、加熱電源:AC380V50Hz
7、控制電源:AC220V50Hz
8、擺蕩速度:無級調節(jié)≤200次/分
9、可提供500ml,800ml特殊規(guī)格